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時間: 2024-02-09 18:50:23 |   作者: 哈希官網(wǎng)hashcsgo

盤點(diǎn)中國最牛的三大半導(dǎo)體設(shè)備龍頭

  北方華創(chuàng)是我國的半導(dǎo)體設(shè)備有突出貢獻(xiàn)的公司,,現(xiàn)有產(chǎn)品涉及ICP刻蝕,、PVD設(shè)備、氧化擴(kuò)散設(shè)備,、清理洗滌設(shè)施等,。此外,公司的產(chǎn)品還包括真空設(shè)備,、鋰電材料設(shè)備和精密電子元器件等,,四大業(yè)務(wù)集群構(gòu)成上市公司主體。其中半導(dǎo)體設(shè)備的營收占比2/3以上,,是公司最重要的業(yè)務(wù)和最主要的估值邏輯來源,。公司利用股權(quán)激勵穩(wěn)固人才基礎(chǔ),通過定增擴(kuò)大資產(chǎn)金額來源,,依靠客戶在產(chǎn)品驗(yàn)證和故障處理方面的支持積累成熟經(jīng)驗(yàn),,成功在部分領(lǐng)域打破國外壟斷,并有望提升市場份額,。

  北方華創(chuàng)2020年年報:取預(yù)告中值,,凈利潤累計同比增長68.3%,單季同比增長115.8%,。從估值(市盈率)角度看,,公司高于近十年75.51%的時間,高于半導(dǎo)體行業(yè)均值(90.57),。 若考慮業(yè)績預(yù)告,,市盈率為156.81,高于近十年68.39%的時間,。股票當(dāng)前價為164.25,,機(jī)構(gòu)目標(biāo)均價為273.67,上升空間66.62%,。機(jī)構(gòu)預(yù)測2021~2022年凈利潤增速為:46.8%和39.9%,,成長性還是可以的。

  二,、中微公司中微公司作為本土半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)先企業(yè),,在刻蝕和MOCVD領(lǐng)域占據(jù)優(yōu)勢,積極布局高端產(chǎn)品,,向封裝,、光伏等泛半導(dǎo)體領(lǐng)域延伸,擴(kuò)大下游應(yīng)用領(lǐng)域和客戶群體,,有望充分享受替代份額提升,。公司技術(shù)積累深厚,部分技術(shù)已達(dá)國際標(biāo)準(zhǔn),,同時匯聚優(yōu)秀人才與管理團(tuán)隊,,客戶資源優(yōu)秀,持續(xù)開發(fā)高端新品,,未來增長可期,。

  中微公司2020年年報:凈利潤累計同比增長161.0%,單季同比增長301.3%,。從估值(市盈率)角度看,,公司高于上市以來4.91%的時間,高于專用設(shè)備行業(yè)均值(30.27),。股票當(dāng)前價為118.88,,機(jī)構(gòu)目標(biāo)均價為198.85,上升空間67.27%,。機(jī)構(gòu)預(yù)測2021~2022年凈利潤增速為:33.4%和32.0%,,成長性還是可以的。

  三,、盛美半導(dǎo)體盛美半導(dǎo)體主要是做半導(dǎo)體專用設(shè)備的研發(fā),、生產(chǎn)和銷售,基本的產(chǎn)品包括半導(dǎo)體清理洗滌設(shè)施,、半導(dǎo)體電鍍設(shè)備和先進(jìn)封裝濕法設(shè)備等,。公司堅持差異化競爭和創(chuàng)新的發(fā)展的策略,通過自主研發(fā)的單片兆聲波清洗技術(shù),、單片槽式組合清洗技術(shù),、電鍍技術(shù)、無應(yīng)力拋光技術(shù)和立式爐管技術(shù)等,,向全球半導(dǎo)體制造,、封裝測試及別的客戶提供定制化的設(shè)備及工藝解決方案,有效提升客戶的生產(chǎn)效率,、提升產(chǎn)品良率并降低生產(chǎn)成本,。

  盛美半導(dǎo)體2020年年報:每股盈利1.03美元,歸母凈利潤1878.00萬美元,,同比去年增長-0.6%,。2020年9月30日,據(jù)上交所官網(wǎng)披露的科創(chuàng)板上市委2020年第82次上市委員會審議會議結(jié)果為,,同意盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡稱“盛美半導(dǎo)體”)首發(fā)上市,。上市后股票名稱為盛美股份。

  [比心] 國內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備公司中,,以北方華創(chuàng),、中微公司,、盛美半導(dǎo)體為龍頭標(biāo)的分別在擴(kuò)散、薄膜,、刻蝕和清洗工藝有較深入的布局和技術(shù)儲備,。

  [心] 其中,北方華創(chuàng)在擴(kuò)散,、薄膜,、介質(zhì)刻蝕和槽式清洗多產(chǎn)品線均有布局,目前公司重點(diǎn)放在 14nm 工藝設(shè)備上,;中微公司在最先進(jìn)的硅刻蝕技術(shù)有非常強(qiáng)的技術(shù)積累,;盛美半導(dǎo)體的單片清洗工藝隨著節(jié)點(diǎn)的推進(jìn)也慢慢的變重要。


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