時(shí)間: 2023-08-23 16:34:12 | 作者: 哈希官網(wǎng)hashcsgo

半導(dǎo)體等精密電子器件制造的核心流程：光刻工藝

器件制造的核心流程,，主要工藝流程包括前處理、涂膠,、軟烘烤,、對(duì)準(zhǔn)曝光、PEB,、顯影,、硬烘烤和檢驗(yàn)。光刻工藝通過上述流程將具有細(xì)微幾何圖形結(jié)構(gòu)的光刻膠留在襯底上,，再通過刻蝕等工藝將該結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到襯底上,。

光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料,。光刻膠由溶劑,、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體,。其利用光化學(xué)反應(yīng),，經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上，是用于微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性電子化學(xué)品,。

因其在半導(dǎo)體等電子器件制作的完整過程中的關(guān)鍵作用,，光刻膠成為中國(guó)重點(diǎn)發(fā)展的電子產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵材料之一,。

根據(jù)顯影效果不同，光刻膠可分正性光刻膠和負(fù)性光刻膠,。正性光刻膠的曝光部分溶于顯影劑,，顯影時(shí)形成的圖形與掩膜版上的圖形相同,。

負(fù)性光刻膠的曝光部分不溶解于顯影劑，顯影時(shí)形成的圖形與掩膜版相反,。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致,。

正性膠已成為主流半導(dǎo)體光刻膠。負(fù)性光刻膠最早應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻工藝中,，但由于顯影時(shí)易變形和膨脹,，1970s以后正性光刻膠成為主流。目前,，在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域,，g線、i線,、ArF線均以正膠為主,。

根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域的不同，光刻膠可分為PCB光刻膠,、LCD光刻膠與半導(dǎo)體光刻膠,。其中，PCB光刻膠的技術(shù)壁壘最低,，半導(dǎo)體光刻膠的技術(shù)門檻最高,。PCB光刻膠最重要的包含干膜光刻膠,、濕膜光刻膠、光成像阻焊油墨,。LCD領(lǐng)域光刻膠最重要的包含彩色光刻膠和黑色光刻膠,、觸摸屏光刻膠、TFT-LCD光刻膠,。

半導(dǎo)體光刻膠包括普通寬普光刻膠,、g線nm）、i線nm）及最先進(jìn)的EUV（《13.5nm）光刻膠,，級(jí)越往上其極限分辨率越高,，同一面積的硅晶圓布線密度越大，性能越好,。

光刻膠處于電子產(chǎn)業(yè)鏈核心環(huán)節(jié)，是半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化的關(guān)鍵一環(huán),。光刻膠在電子產(chǎn)業(yè)鏈舉足輕重,，其上游是精細(xì)化工行業(yè)，下游是半導(dǎo)體,、印制電路板,、液晶顯示器等

制造行業(yè)。其中,，半導(dǎo)體是光刻膠技術(shù)門檻最高的下游領(lǐng)域,。在半導(dǎo)體精細(xì)加工從微米級(jí)、亞微米級(jí),、深亞微米級(jí)進(jìn)入到納米級(jí)水平的過程中,，光刻膠起著舉足輕重的作用，其生產(chǎn)制造也因此成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化的關(guān)鍵一環(huán),。

光刻膠市場(chǎng)穩(wěn)定成長(zhǎng),，中國(guó)大陸領(lǐng)跑全球。根據(jù)Cision數(shù)據(jù),，2019年,，全球整體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模為91億美元，而到2022年則有望達(dá)到105億美元,，年均復(fù)合增速5%,。其中，作為全球最大電子

進(jìn)出口國(guó),，中國(guó)占據(jù)了光刻膠最大的市場(chǎng)占有率,。同時(shí)，伴隨中國(guó)在半導(dǎo)體,、面板和PCB等電子元器件的市場(chǎng)影響力逐年提升,，國(guó)內(nèi)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模快速擴(kuò)大，根據(jù)SEMI數(shù)據(jù),，2015-2020年中國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模由100億元增長(zhǎng)至176億元,，年均復(fù)合增速12.0%。

國(guó)內(nèi)缺乏半導(dǎo)體光刻膠供應(yīng)能力,，國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊,。分品類來看，在全球光刻膠市場(chǎng),，半導(dǎo)體,、LCD、PCB類光刻膠各自占有27%,、24%和24%的份額,。其中半導(dǎo)體光刻膠占比最高，也是技術(shù)難度最高,、成長(zhǎng)性最好的細(xì)分市場(chǎng),。

不過，目前我國(guó)半導(dǎo)體光刻膠和面板光刻膠制造能力仍較弱,，中國(guó)光刻膠企業(yè)主要生產(chǎn)技術(shù)水平較低的PCB用光刻膠,，占整體生產(chǎn)結(jié)構(gòu)中的94%。我國(guó)本土的半導(dǎo)體光刻膠及面板光刻膠供應(yīng)能力十分有限,，主要依賴進(jìn)口,，因此其國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊。

后來居上,。1839年,，第一套“光刻系統(tǒng)”重鉻酸鹽明膠誕生。此后經(jīng)過百年發(fā)展,，光刻膠技術(shù)開始成熟,，1950s，德國(guó)Kalle公司制成重氮萘醌-酚醛樹脂印刷材料,，曝光光源可采用g線s,，IBM使用自研的KrF光刻膠突破了KrF光刻技術(shù)。隨后,，東京應(yīng)化于1995年研發(fā)出KrF正性光刻膠并實(shí)現(xiàn)大規(guī)模商業(yè)化,，因此迅速占據(jù)市場(chǎng)，這標(biāo)志著光刻膠鄭重進(jìn)入日本廠商的霸主時(shí)代,。此后光刻技術(shù)仍在持續(xù)進(jìn)步,，ArF、EUV光刻膠先后問世,。2000年,，JSR的ArF光刻膠成為半導(dǎo)體工藝開發(fā)聯(lián)盟

的下一代半導(dǎo)體0.13μm工藝的抗蝕劑,。2001，東京應(yīng)化也推出了自己的ArF光刻膠產(chǎn)品,。2002年,，東芝開發(fā)出分辨率22nm的低分子EUV光刻膠。JSR在2011年與SEMATECH聯(lián)合開發(fā)出用于15nm工藝的化學(xué)放大型EUV光刻膠,。

目前日本企業(yè)在光刻膠領(lǐng)域仍保持壟斷地位,。光刻膠的核心技術(shù)被日本和歐美企業(yè)所掌握，并且由于光刻膠的特殊性質(zhì),，市場(chǎng)潛在進(jìn)入者很難對(duì)成品進(jìn)行逆向分析,，因此光刻膠產(chǎn)業(yè)呈現(xiàn)日本企業(yè)寡頭壟斷格局。世界主要光刻膠企業(yè)有日本JSR,、東京應(yīng)化,、信越化學(xué)，美國(guó)陶氏化學(xué),、韓國(guó)東進(jìn)世美等,。中國(guó)光刻膠產(chǎn)業(yè)規(guī)模仍較小，但已有眾多廠商積極布局,，最重要的包含晶瑞電材、北京科華,、華懋

光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈共有四大壁壘,，從上游至終端分別是原材料壁壘、配方壁壘,、設(shè)備壁壘和認(rèn)證壁壘,。其中，原材料壁壘和配方壁壘對(duì)光刻膠廠商從原料合成以及差異化研發(fā)能力提出較高要求,。設(shè)備壁壘主要是研發(fā)中配套使用的,，以光刻機(jī)為和核心的半導(dǎo)體設(shè)備，由于先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備往往價(jià)格不菲,，因此這也構(gòu)成光刻膠開發(fā)的壁壘之一,。

此外，光刻膠雖是半導(dǎo)體制造的核心材料,，但其成本占整體制造流程中的比例并不高,，因此下游廠商更換意愿低，再加之光刻膠本身長(zhǎng)達(dá)數(shù)年的認(rèn)證周期,，這就構(gòu)成了下游認(rèn)證壁壘,。

過去，受限于多項(xiàng)壁壘壓制,，國(guó)內(nèi)光刻膠廠商只能在夾縫中生存,，產(chǎn)品基本集中在較低端的PCB光刻膠,。而當(dāng)前，國(guó)產(chǎn)光刻膠正處于替代窗口期,，行業(yè)壁壘有逐步被打開的趨勢(shì),。

首先，國(guó)內(nèi)光刻膠廠商經(jīng)過多年積累,，已儲(chǔ)備了更豐富的光刻膠生產(chǎn)技術(shù),，頭部廠商諸如北京科華、晶瑞電材等已經(jīng)在KrF,、ArF等高端品類中嶄露頭角,，因此配方壁壘和原材料壁壘，在國(guó)內(nèi)技術(shù)儲(chǔ)備接近突破奇點(diǎn)的位置上,，有望被某些特定的程度上打破,。

同時(shí)，長(zhǎng)期資金市場(chǎng)對(duì)光刻膠的投資升溫也大幅拉動(dòng)了光刻膠企業(yè)的融資能力,。設(shè)備壁壘的本質(zhì)是資金壁壘,，在資金充足的情況下，國(guó)內(nèi)廠商正積極購(gòu)置先進(jìn)

等高端設(shè)備,，以匹配先進(jìn)制程產(chǎn)品研發(fā),。此外，國(guó)產(chǎn)化需求增強(qiáng)了下游晶圓廠對(duì)國(guó)內(nèi)光刻膠供應(yīng)商的認(rèn)證意愿,，再加之信越化學(xué)斷供等意外事件,，國(guó)內(nèi)光刻膠已確定進(jìn)入客戶認(rèn)證加速期。

從市場(chǎng)占比來看,，半導(dǎo)體,、PCB與LCD三類光刻膠市場(chǎng)占有率接近。其中,，半導(dǎo)體作為成長(zhǎng)動(dòng)力最強(qiáng),、發(fā)展空間最廣、技術(shù)上的含金量最高的下游市場(chǎng),，應(yīng)當(dāng)是國(guó)產(chǎn)光刻膠突破最核心的方向,。同時(shí)，PCB和LCD光刻膠國(guó)產(chǎn)化也仍有不小空間,，因此,，本章將就光刻膠三大下游應(yīng)用品類進(jìn)行分類論述，以梳理不同類別光刻膠的投資邏輯,。

的最小特征尺寸,，是大規(guī)模集成電路制造的過程中最重要的工藝。光刻和刻蝕工藝占芯片制造時(shí)間的40%-50%,，占制造成本的30%,。在圖形轉(zhuǎn)移過程中,，一般要對(duì)硅片進(jìn)行十多次光刻。光刻膠需經(jīng)過硅片清洗,、預(yù)烘,、涂膠、前烘,、對(duì)準(zhǔn),、曝光、后烘,、顯影,、刻蝕等環(huán)節(jié)，將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上,，形成與掩膜版對(duì)應(yīng)的幾何圖形,。

隨著半導(dǎo)體制程由微米級(jí)、亞微米級(jí),、深亞微米級(jí)進(jìn)入到納米級(jí)階段,，配套光刻膠的感光波長(zhǎng)也由紫外寬譜向g線nm）→i線nm）的方向轉(zhuǎn)移，以達(dá)到集成電路更高的密集度,，從而滿足市場(chǎng)對(duì)半導(dǎo)體小型化,、功能多樣化的的需求。

ArF光刻膠占據(jù)半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)四成份額,，是目前最重要的半導(dǎo)體光刻膠之一,。ArF光刻膠大多數(shù)都用在ArF準(zhǔn)分子激光光源的DUV光刻機(jī)的光刻工藝當(dāng)中，感光波長(zhǎng)為193nm,，可用于130nm-14nm芯片工藝制程（其中干式大多數(shù)都用在130nm-65nm工藝,，浸沒式大多數(shù)都用在65nm-14nm工藝,。）,，部分晶圓廠還可以使用ArF光源做到7nm制程。以中芯國(guó)際收入結(jié)構(gòu)為例,，在1Q21收入中66%的收入來自ArF光刻膠對(duì)應(yīng)制程,，其重要程度可見一斑。

目前,，KrF光刻膠和g/i線%份額,，均是重要的成熟制程光刻膠。KrF光刻膠大多數(shù)都用在KrF激光光源光刻工藝,，對(duì)應(yīng)工藝制程在250nm-150nm,；而g/i線光刻膠大多數(shù)都用在

汞燈光源的光刻工藝，對(duì)應(yīng)350nm及以上工藝制程,。此外,，用于極紫外光刻的EUV光刻膠是目前應(yīng)用制程最先進(jìn)的光刻膠產(chǎn)品,，主要用于7nm及以下先進(jìn)制程的光刻工藝，該產(chǎn)品目前仍處于應(yīng)用早期,，其市場(chǎng)占有率較小且難以統(tǒng)計(jì),，不過未來有望成長(zhǎng)為光刻膠最核心的細(xì)分市場(chǎng)之一。

日本廠商在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域占據(jù)絕對(duì)主導(dǎo)地位,。從整體市場(chǎng)來看,，日本企業(yè)在光刻膠市場(chǎng)占據(jù)七成以上份額，其中JSR株式會(huì)社實(shí)現(xiàn)了光刻膠產(chǎn)品全覆蓋,，是全球光刻膠龍頭廠商,。其他主要廠商包括日本的東京應(yīng)化、富士電子,、信越化學(xué)和住友化學(xué),，美國(guó)的陶氏化學(xué)和韓國(guó)的東進(jìn)世美肯等。

從細(xì)分市場(chǎng)來看,，日本廠商幾乎壟斷先進(jìn)制程市場(chǎng),。在g/i線光刻膠領(lǐng)域，除了日系廠商外,，還有韓國(guó)東進(jìn)世美肯和美國(guó)杜邦各自占據(jù)12%和18%份額,。而在KrF領(lǐng)域，主要非日系廠商僅剩美國(guó)杜邦,，占據(jù)11%份額,。再到ArF光刻膠市場(chǎng)，美國(guó)杜邦份額也僅有4%,，這一細(xì)分市場(chǎng)幾乎被日系廠商壟斷,。至于目前工藝制程最先進(jìn)的EUV光刻膠，則更是被JSR和信越化學(xué)兩家日系廠壟斷,。

國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)最重要的包含晶瑞電材（蘇州瑞紅）,、彤程新材（北京科華）、上海新陽(yáng),、華懋科技（徐州博康）和南大光電等,。國(guó)內(nèi)光刻膠產(chǎn)品大多分布在在g/i線市場(chǎng)，而KrF和ArF光刻膠仍處于技術(shù)積累和市場(chǎng)開拓期,。

ArF光刻膠方面,，五家廠商均已購(gòu)置了ArF光刻機(jī)用于產(chǎn)品研制，目前正處于技術(shù)開發(fā)或客戶驗(yàn)證中,。2021年7月初,，南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠通過客戶認(rèn)證，成為國(guó)內(nèi)通過產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠,。未來隨著國(guó)內(nèi)光刻膠企業(yè)不斷在KrF領(lǐng)域拓寬客戶,，并在ArF市場(chǎng)完成技術(shù)布局,，國(guó)產(chǎn)光刻膠有望實(shí)現(xiàn)全面突破。

光刻工藝同樣也是液晶面板制造的核心工藝,，通過鍍膜,、清洗、光刻膠涂覆,、曝光,、顯影、蝕刻等工序,，將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到薄膜上,，形成與掩膜板對(duì)應(yīng)的幾何圖形，從而制得TFT電極與彩色濾光片,。面板光刻膠在其中扮演了重要的角色,，是LCD產(chǎn)業(yè)鏈上游至關(guān)重要的核心材料。

面板光刻膠大致上可以分為TFT-LCD光刻膠,、彩色光刻膠和黑色光刻膠,、和觸摸屏光刻膠。三類面板光刻膠被應(yīng)用在LCD制作的完整過程的不同工序中,。TFT-LCD光刻膠用于加工液晶面板前段Array制程中的微細(xì)圖形電極,；彩色光刻膠和黑色光刻膠用來制造LCD中的彩色濾光片；觸摸屏光刻膠用于制作觸摸電極,。

伴隨顯示產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移,，國(guó)內(nèi)面板光刻膠市場(chǎng)規(guī)模快速擴(kuò)張,。從2009年開始,，面板產(chǎn)業(yè)鏈逐漸向中國(guó)轉(zhuǎn)移。經(jīng)過十年的快速擴(kuò)張,，中國(guó)面板行業(yè)后來居上,。目前全球前三大液晶面板供應(yīng)商京東方、華星

,、惠科光電均為中國(guó)廠商,，中國(guó)已經(jīng)主導(dǎo)液晶顯示產(chǎn)業(yè),。而隨著我們國(guó)家面板產(chǎn)能的不斷擴(kuò)張,，面板光刻膠作為核心材料，需求量也在持續(xù)不斷的增加,。根據(jù)產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)的數(shù)據(jù),，2015-2020年，中國(guó)面板光刻膠市場(chǎng)規(guī)模由3.07億美元成長(zhǎng)為10.2億美元,，年均復(fù)合增速27.14%,。盡管國(guó)內(nèi)市場(chǎng)對(duì)LCD光刻膠的需求量一直增長(zhǎng),，但我國(guó)面板光刻膠生產(chǎn)能力仍嚴(yán)重不足。

目前面板光刻膠的生產(chǎn)被日韓廠商壟斷,，以需求最多的彩色光刻膠為例,，根據(jù)前瞻產(chǎn)業(yè)研究院數(shù)據(jù)，東京應(yīng)化,、LG化學(xué),、東洋油墨、住友化學(xué),、三菱化學(xué),、奇美等日本、韓國(guó)和中國(guó)臺(tái)灣企業(yè)占據(jù)了90%以上的市場(chǎng)占有率,，我國(guó)本土供應(yīng)能力較弱,。

在LCD光刻膠巨大需求空間的背景下，國(guó)內(nèi)廠商也在積極進(jìn)行LCD光刻膠的國(guó)產(chǎn)化,。國(guó)內(nèi)面板光刻膠的主要廠商有北旭電子,、晶瑞電材、容大感光,、雅克科技,、欣奕華等。目前,，北旭電子適用于4MASK工藝的Halftone光刻膠實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),，公司生產(chǎn)的高分辨率光刻膠也已通過客戶初步認(rèn)證，面板用正性光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)全線覆蓋,。

飛凱材料TFT-LCD光刻膠已形成穩(wěn)定銷售,，面板用光刻膠業(yè)務(wù)的大幅度的提高，2021Q1營(yíng)收同比增長(zhǎng)53%,。博硯電子的黑色光刻膠已完成開發(fā)和中試工作,，整體技術(shù)達(dá)到國(guó)際先進(jìn)。雅克科技收購(gòu)LG化學(xué)彩色光刻膠事業(yè)部的生產(chǎn)機(jī)器設(shè)備,、存貨,、知識(shí)產(chǎn)權(quán)等，掌握了彩色光刻膠和正性光刻膠的制程工藝,。

PCB光刻膠是印制線路板重要的上游原材料之一,，占PCB制造成本的3%-5%?？煞譃楦赡す饪棠z,、濕膜光刻膠與光成像阻焊油墨。干膜光刻膠是由液態(tài)光刻膠在涂布機(jī)上和高清潔度的條件下均勻涂布在載體PET膜上，經(jīng)烘干,、冷卻后覆上PE膜,，收卷而成的薄膜型光刻膠。濕膜光刻膠的

濕膜光刻膠的性能優(yōu)于干膜,，目前正在加速替代干膜光刻膠,。濕膜具有精度更高，價(jià)格更低廉的優(yōu)勢(shì),，能夠很好的滿足PCB高性能的要求,。但同時(shí)操作難度更高，廢液會(huì)污染自然環(huán)境,。干膜具有附著性強(qiáng),、操作簡(jiǎn)單便捷，易于加工,、環(huán)境友好的特點(diǎn),，在處理高密度電路上更有優(yōu)勢(shì)。但導(dǎo)致電路缺陷的可能性更大,。

光成像阻焊油墨是在PCB的制作的完整過程中起阻焊作用的油墨,，能預(yù)防焊錫搭線造成的短路，可保證印刷電路板在制作,、運(yùn)輸,、貯存、使用時(shí)的安全性,、電性能不變性,。

憑借我國(guó)在勞動(dòng)力和資源等方面的優(yōu)勢(shì)，21世紀(jì)以來,，PCB產(chǎn)業(yè)開始向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移,，國(guó)內(nèi)廠商逐步掌握了PCB上游關(guān)鍵原材料的核心技術(shù)，大大降低了成本,，大幅度的提高了產(chǎn)能,。據(jù)中商產(chǎn)業(yè)研究院估計(jì)，2019年全球印制電路板產(chǎn)值約637億美元,，我國(guó)PCB市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到329.4億美元,，占全球市場(chǎng)的份額超過50%，是全球最大的PCB生產(chǎn)國(guó),。預(yù)計(jì)在2021年產(chǎn)值能達(dá)到370.5億美元,。同時(shí)，2000-2019年間,，日本,、美國(guó)和歐洲產(chǎn)能所占份額從70%降至7%。

我國(guó)目前慢慢的變成了世界PCB產(chǎn)業(yè)鏈的主導(dǎo)者,，而作為PCB的關(guān)鍵原材料之一,，PCB光刻膠的需求也在持續(xù)不斷的增加。根據(jù)產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)的預(yù)估,，2020年我國(guó)PCB光刻膠的市場(chǎng)規(guī)模為85億元,，隨著PCB向更高的精度發(fā)展，市場(chǎng)對(duì)PCB光刻膠的質(zhì)量將會(huì)有更高的要求,。

雖然我國(guó)擁有全球近一半的PCB產(chǎn)能,，但PCB光刻膠市場(chǎng)仍然是日本主導(dǎo)。根據(jù)前瞻產(chǎn)業(yè)研究院的測(cè)算,，臺(tái)灣長(zhǎng)興化學(xué),、日本旭化成、日本日立化成三家企業(yè)就占據(jù)了干膜光刻膠超80%的市場(chǎng)占有率,。根據(jù)產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)的數(shù)據(jù),，在光成像阻焊油墨方面，僅日本一家公司太陽(yáng)油墨就占據(jù)了60%的世界市場(chǎng)份額,。

根據(jù)中商產(chǎn)業(yè)研究院數(shù)據(jù),，我國(guó)PCB光刻膠國(guó)產(chǎn)化率約50%。由于PCB光刻膠的技術(shù)壁壘遠(yuǎn)低于LCD光刻機(jī)與半導(dǎo)體光刻膠,，因此在三類光刻膠中,，PCB光刻膠的國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程最快。中國(guó)內(nèi)資企業(yè)已在國(guó)內(nèi)PCB市場(chǎng)中占據(jù)50%以上的市場(chǎng)占有率,。在我國(guó)PCB光刻膠生產(chǎn)企業(yè)中,，本土企業(yè)占六成。

國(guó)內(nèi)市場(chǎng)研發(fā)進(jìn)程加速,。目前,，容大感光、廣信材料,、東方材料,、北京力拓達(dá)等內(nèi)資企業(yè)已占據(jù)國(guó)內(nèi)50%左右的濕膜光刻膠和光成像阻焊油墨市場(chǎng)占有率。國(guó)內(nèi)企業(yè)中,，飛凱材料,、容大感光、廣信材料等已有相應(yīng)PCB光刻膠產(chǎn)品投產(chǎn),。廣信材料公司年產(chǎn)8000噸感光材料為PCB油墨系列新產(chǎn)品已經(jīng)生產(chǎn)爬坡,。

容大感光的車載PCB用阻焊油墨，已經(jīng)成功應(yīng)用于多個(gè)知名品牌的汽車上,，目前年銷售量在100噸以上,，后續(xù)會(huì)加大研發(fā)投入,，并積極進(jìn)行市場(chǎng)推廣。

在光刻膠產(chǎn)業(yè)最核心的半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域,，目前國(guó)產(chǎn)替代趨勢(shì)正愈演愈烈,，除了下游廠商從供應(yīng)鏈安全角度扶持國(guó)產(chǎn)光刻膠以及國(guó)家政策支持等因素外，還有國(guó)內(nèi)外晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)潮帶來的需求爆發(fā)和認(rèn)證窗口期,。再加之全球光刻膠巨頭信越化學(xué)受地震影響而減產(chǎn),，斷供了部分中小晶圓廠，進(jìn)一步加劇了半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品短缺,，也為國(guó)內(nèi)光刻膠公司可以提供了寶貴的替代窗口期,。

通訊、新能源汽車,、高性能計(jì)算,、線上服務(wù)和自動(dòng)化等對(duì)半導(dǎo)體日漸增長(zhǎng)的強(qiáng)勁需求，世界各大半導(dǎo)體制造商將在未來兩年分別新建19座和10座高容量晶圓廠,。中國(guó)大陸和中國(guó)臺(tái)灣在未來兩年將分別建立8座晶圓廠,，美國(guó)新建6座。這29座晶圓建成后將新增260萬片/月的晶圓產(chǎn)能,，有望拉動(dòng)全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模繼續(xù)高速成長(zhǎng),。

國(guó)內(nèi)晶圓廠建設(shè)火熱進(jìn)行，光刻膠進(jìn)入認(rèn)證窗口期,。隨著中美貿(mào)易沖突以來,，國(guó)內(nèi)對(duì)芯片行業(yè)的重視程度慢慢的升高，中國(guó)大陸

商正加速擴(kuò)產(chǎn),。例如長(zhǎng)江存儲(chǔ)和紫光國(guó)微的在建產(chǎn)線萬片的新增產(chǎn)能,。中芯國(guó)際目前有三條產(chǎn)線萬片/月的在建產(chǎn)線萬片的規(guī)劃產(chǎn)線、待投產(chǎn)后每月將各多釋放20萬片新產(chǎn)能,。截止2021年8月,，國(guó)內(nèi)主要晶圓廠計(jì)劃擴(kuò)充的產(chǎn)能約468.48萬片/月（折8英寸），僅2021年預(yù)計(jì)新增的產(chǎn)能就有約75.58萬片/月（折8英寸）,。中國(guó)大陸的晶圓廠產(chǎn)能擴(kuò)張將大幅拉動(dòng)國(guó)產(chǎn)光刻膠的市場(chǎng)需求,。同時(shí)，相較于穩(wěn)定產(chǎn)線,，光刻膠產(chǎn)品在新建產(chǎn)線的客戶導(dǎo)入難度更低,，因此國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)有望伴隨下游晶圓廠建設(shè)，而一同進(jìn)入行業(yè)發(fā)展黃金時(shí)期,。

日本地震導(dǎo)致信越化學(xué)光刻膠減產(chǎn),，斷供缺口打開國(guó)產(chǎn)替代窗口期。2021年2月13日,，日本福島東部海域發(fā)生7.3級(jí)地震,，日本光刻膠大廠信越化學(xué)在當(dāng)?shù)氐腒rF產(chǎn)線遭到破壞被迫暫停生產(chǎn),。因此其向中國(guó)大陸多家晶圓廠限制供貨KrF光刻膠，并向小規(guī)模晶圓廠通知停止供貨KrF光刻膠,。

由于日本信越化學(xué)占據(jù)世界22%左右的KrF光刻膠市場(chǎng)占有率,。因此，信越減產(chǎn)將使得KrF光刻膠供應(yīng)存在比較大的缺口,，對(duì)于國(guó)產(chǎn)企業(yè)而言是寶貴的替代機(jī)遇,。

意外事件有望加速國(guó)產(chǎn)光刻膠驗(yàn)證,。國(guó)產(chǎn)光刻膠經(jīng)歷多年發(fā)展已形成了較為豐富的技術(shù)積累,，目前多家國(guó)內(nèi)廠商的KrF、ArF光刻膠已經(jīng)處于產(chǎn)品驗(yàn)證中,，如北京科華,、上海新陽(yáng)和徐州博康的ArF干法光刻膠和晶瑞電材的KrF光刻膠等等。而此次信越意外斷供無疑加劇了光刻膠短缺,，也間接推動(dòng)了國(guó)產(chǎn)光刻膠驗(yàn)證加速,。

大基金加碼光刻膠廠商彰顯信心。2021年7月,，南大光電控股子公司寧波南大廣電擬通過增資擴(kuò)股方式引入戰(zhàn)略投資者大基金二期,。大基金二期將以1.83億元認(rèn)購(gòu)南大光電新增注冊(cè)資本0.67億元。大基金二期入股寧波南大廣電,，不僅僅可以擴(kuò)充企業(yè)的資金實(shí)力,，同時(shí)也將逐漸增強(qiáng)企業(yè)與國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備、芯片制造頭部企業(yè)的協(xié)同,，從而加快光刻膠業(yè)務(wù)的發(fā)展,，改變國(guó)內(nèi)高端光刻膠受制于人的現(xiàn)狀。

目前,，在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域,，國(guó)內(nèi)廠商在技術(shù)實(shí)力、市場(chǎng)影響力,、份額占比等方面仍落后于日韓領(lǐng)先企業(yè),。不過，在晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)潮以及半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化如火如荼的趨勢(shì)下,，中國(guó)光刻膠廠商迎來了絕佳的發(fā)展機(jī)遇期,。目前已有部分領(lǐng)先企業(yè)，如晶瑞電材,、北京科華等,，開始嶄露頭角，在KrF,、ArF等高端光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)從零到一的突破,。中國(guó)光刻膠產(chǎn)業(yè)有望步入快速成長(zhǎng)期,。

晶瑞電材是一家微電子材料的平臺(tái)型高新技術(shù)企業(yè)，其圍繞泛半導(dǎo)體材料和新能源材料兩大方向,，基本的產(chǎn)品包括光刻膠及配套材料,、超凈高純?cè)噭?

材料和基礎(chǔ)化工材料等，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體,、新能源,、基礎(chǔ)化工等行業(yè)。子公司蘇州瑞紅深耕光刻膠近30年,，產(chǎn)品類型豐富,。晶瑞電材子公司蘇州瑞紅1993年開始光刻膠生產(chǎn)，承擔(dān)并完成了國(guó)家02專項(xiàng)“i線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目,。公司近30年致力于光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn),，光刻膠產(chǎn)品類型覆蓋高中低分辨率的I線、G線紫外正性光刻膠,、環(huán)化橡膠型負(fù)性光刻膠,、化學(xué)增幅型光刻膠、厚膜光刻膠等類型,，應(yīng)用行業(yè)涵蓋

半導(dǎo)體光刻膠方面,，公司g線、i線產(chǎn)品已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),，客戶覆蓋國(guó)內(nèi)一流廠商,。蘇州瑞紅完成了多款g線、i線光刻膠產(chǎn)品技術(shù)開發(fā)工作,，并實(shí)現(xiàn)銷售,。取得中芯國(guó)際、揚(yáng)杰科技,、福順微電子等國(guó)內(nèi)企業(yè)的供貨訂單,，并在士蘭微、吉林華微,、深圳方正等知名半導(dǎo)體廠進(jìn)行測(cè)試,。目前公司正不斷擴(kuò)大g/i線光刻膠的市場(chǎng)占有率。

同時(shí),，公司持續(xù)推進(jìn)KrF/ArF深紫外線光刻膠科研攻關(guān),。目前，KrF（248nm深紫外）光刻膠已完成中試,，產(chǎn)品分辨率達(dá)到了0.25～0.13μm的技術(shù)要求,，建成了中試示范線Gi型光刻機(jī)設(shè)備，ArF高端光刻膠研發(fā)工作正式啟動(dòng),，旨在研發(fā)滿足90-28nm芯片制程的ArF（193nm）光刻膠,。

LCD光刻膠方面,，公司2016年與日本三菱化學(xué)株式會(huì)社在蘇州設(shè)立了LCD用彩色光刻膠共同研究所，為三菱化學(xué)的彩色光刻膠在國(guó)內(nèi)的

以及中國(guó)國(guó)內(nèi)客戶評(píng)定檢測(cè)服務(wù),，并于2019年開始批量生產(chǎn)供應(yīng)顯示面板廠家,。

公司持續(xù)投入研發(fā)資源，引進(jìn)高端技術(shù)人才,。2020年公司研發(fā)投入為3,，384.70萬元，占營(yíng)業(yè)收入的3.31%,，研發(fā)人員增長(zhǎng)至96人,，占員工比例的16.6%。截至2020年底,，公司及控股子公司已獲授權(quán)專利70項(xiàng),，其中發(fā)明專利43項(xiàng),，實(shí)用新型專利27項(xiàng),，其中光刻膠相關(guān)的已獲授權(quán)發(fā)明專利17項(xiàng)。

公司重視高端技術(shù)人才的引進(jìn),，近期邀請(qǐng)陳韋帆先生擔(dān)任光刻膠事業(yè)部總經(jīng)理職務(wù),。陳韋帆先生深耕半導(dǎo)體行業(yè)近20年，曾先后履職力晶,、日月光,、友達(dá)光電、美光（臺(tái)灣）,、TOK等知名半導(dǎo)體企業(yè),，尤其在高端光刻膠產(chǎn)品的技術(shù)研發(fā)、市場(chǎng)開拓及評(píng)價(jià)實(shí)施上擁有豐富的經(jīng)驗(yàn),。此次陳韋帆先生的加入將會(huì)大力提高公司在高端光刻膠的研發(fā)及市場(chǎng)推廣的速度,。

隨著我國(guó)芯片制造行業(yè)國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程加速，2020年公司核心產(chǎn)品光刻膠及配套材料的銷售取得歷史最好成績(jī),，全年實(shí)現(xiàn)銷售1.79億元,，同比增長(zhǎng)16.98%。與此同時(shí),，光刻膠業(yè)務(wù)在公司營(yíng)業(yè)收入中的占比也得到顯著提升,，2020年達(dá)到17.52%。

北京科華是上市公司彤程新材的控股子公司,，其56.56%的股權(quán)由彤程新材持有,。北京科華是一家專注于光刻膠及配套試劑的高新技術(shù)企業(yè)，集先進(jìn)光刻膠研發(fā),、生產(chǎn)和銷售為一體,。

自2004年成立以來,，承擔(dān)了多項(xiàng)國(guó)家級(jí)光刻膠重點(diǎn)研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目。公司產(chǎn)品序列完整,，覆蓋KrF（248nm）,、I-line、G-line,、紫外寬譜光刻膠,。目前，集成電路用高分辨G線正膠,、I線nm深紫外光刻膠已實(shí)現(xiàn)產(chǎn)線建設(shè)和量產(chǎn)出貨,。其產(chǎn)品已廣泛應(yīng)用于集成電路、發(fā)光

,、分立器件,、先進(jìn)封裝等領(lǐng)域。公司憑借先進(jìn)的技術(shù)水平和穩(wěn)定的產(chǎn)品質(zhì)量,，已經(jīng)成為行業(yè)頂尖客戶的穩(wěn)定合作伙伴,。公司主要客戶包括中芯國(guó)際、上海華力微電子,、長(zhǎng)江存儲(chǔ),、華潤(rùn)上華、杭州士蘭,、吉林華微電子,、三安光電、華燦光電等,。伴隨產(chǎn)品線拓展及客戶導(dǎo)入,，公司收入規(guī)模逐年提升。2016-2020年,，公司營(yíng)收由5613萬元增至8929萬元,，年均復(fù)合增速12%,。2021年上半年,，伴隨國(guó)產(chǎn)替代加速以及行業(yè)景氣上行,，公司收入規(guī)模進(jìn)入高速成長(zhǎng)期,，實(shí)現(xiàn)營(yíng)收5647.83萬元,，同比增長(zhǎng)46.74%,。此外,，公司積極加大研發(fā)投入,，助力高端光刻膠產(chǎn)品開發(fā),。2018-2020年的研發(fā)支出分別為934萬,、2018萬和3780萬元，占收入比例約四成。

北京科華技術(shù)團(tuán)隊(duì)研發(fā)實(shí)力雄厚,，創(chuàng)始人陳昕帶領(lǐng)的國(guó)際化團(tuán)隊(duì)從事光刻膠行業(yè)近三十年,，擁有多名光刻膠專家，具備原材料合成,、配方以及相關(guān)基礎(chǔ)評(píng)價(jià)能力,。同時(shí)公司分析和應(yīng)用測(cè)試設(shè)備平臺(tái)較為完備。公司擁有分辨率達(dá)到0.11um的ASMLPAS5500/850掃描式曝光機(jī),、Nikon步進(jìn)式曝光機(jī),、

LACT8涂膠顯影一體機(jī)和HitachiS9220CDSEM等主流設(shè)備。完備的支持產(chǎn)品研發(fā)和出廠檢驗(yàn)的分析和應(yīng)用測(cè)試平臺(tái)保障了公司在KrF,、G/I線光刻膠產(chǎn)品及關(guān)鍵原料的順利進(jìn)展,。

公司產(chǎn)品線完整且豐富，覆蓋KrF（248nm）,、G/I線（含寬譜）等主流品類,，主要包括KrF光刻膠DK1080、DK2000,、DK3000系列,；g-iline光刻膠KMPC5000、KMPC7000,、KMPC8000,、KMPEP3100系列和KMPEP3200A系列,；Lift-off工藝使用的負(fù)膠KMPE3000系列,；用于分立器件的BN、BP系列等,。為保障生產(chǎn),，科華建設(shè)了高檔光刻膠生產(chǎn)基地，具有百噸級(jí)環(huán)化橡膠系紫外負(fù)性光刻膠和千噸級(jí)負(fù)性光刻膠配套試劑生產(chǎn)線,、G/I線噸/年）和正膠配套試劑生產(chǎn)線nm光刻膠生產(chǎn)線等多條光刻膠產(chǎn)線,。

同時(shí)公司ArF光刻膠樹脂也已進(jìn)入實(shí)驗(yàn)研發(fā)階段。2021年8月,，公司使用自籌資金6.98億元投資建設(shè)“ArF高端光刻膠研發(fā)平臺(tái)建設(shè)項(xiàng)目”,，主要研究ArF濕法光刻膠工業(yè)化生產(chǎn)技術(shù)開發(fā)，通過建立標(biāo)準(zhǔn)化的生產(chǎn)及控制流程,，提升高端光刻膠的質(zhì)量控制水平,，實(shí)現(xiàn)193nm濕法光刻膠量產(chǎn)生產(chǎn)。項(xiàng)目預(yù)計(jì)于2023年末建設(shè)完成,。

上海新陽(yáng)是一家半導(dǎo)體用電子化學(xué)品及配套設(shè)備制造商,。在半導(dǎo)體封裝材料領(lǐng)域，公司的功能性化學(xué)材料銷量與市占率位居全國(guó)第一,。在半導(dǎo)體制造材料領(lǐng)域,，公司的芯片銅互連電鍍液及添加劑,、蝕刻后清洗液已實(shí)現(xiàn)大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化。此外,，公司積極布局高端半導(dǎo)體光刻膠,，在ArF干法、KrF厚膜膠以及I線光刻膠領(lǐng)域均有重大突破,。

公司重視研發(fā)投入,，研發(fā)費(fèi)用及研發(fā)人員數(shù)量逐年增加。截至2020年底,，公司研發(fā)團(tuán)隊(duì)共有161人,，占公司員工總數(shù)的26.35%。在半導(dǎo)體業(yè)務(wù)技術(shù)開發(fā)團(tuán)隊(duì)中,，95%人員為本科以上學(xué)歷,，20%為碩士研究生以上學(xué)歷，近30%的技術(shù)人員有10年以上行業(yè)經(jīng)驗(yàn),。公司2020年研發(fā)投入總額8,，027.46萬元，占全年?duì)I業(yè)收入的比重為11.57%,，其中半導(dǎo)體業(yè)務(wù)研發(fā)投入占半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的比重為20.60%,。

截至2020年底，公司已申請(qǐng)專利275項(xiàng),，其中發(fā)明專利139項(xiàng),。集成電路制造用高端光刻膠項(xiàng)目是2020年內(nèi)公司研發(fā)投入的重點(diǎn)項(xiàng)目之一。

公司穩(wěn)步推進(jìn)光刻膠項(xiàng)目,，部分產(chǎn)品已取得優(yōu)異的線外測(cè)試數(shù)據(jù),。公司目前正在開發(fā)的集成電路制造用高端光刻膠產(chǎn)品有邏輯和

芯片制造用的I線光刻膠、KrF光刻膠,、ArF干法光刻膠,，存儲(chǔ)芯片制造用的KrF厚膜光刻膠，以及底部抗反射膜（BARC）等配套材料,。公司集成電路制造用ArF干法,、KrF厚膜等中試光刻膠產(chǎn)品已取得優(yōu)異的客戶端測(cè)試結(jié)果，其中,，KrF（248nm）厚膜光刻膠產(chǎn)品已通過客戶認(rèn)證,，并成功取得第一筆訂單。此外,，子公司芯刻微開展的ArF濕法光刻膠項(xiàng)目研發(fā)已引進(jìn)了核心技術(shù)專家團(tuán)隊(duì),，為ArF濕法光刻膠項(xiàng)目的開發(fā)提供了技術(shù)保障。

光刻機(jī)設(shè)備陸續(xù)到位，有助于加速推進(jìn)公司光刻膠技術(shù)產(chǎn)業(yè)化,。公司采購(gòu)的用于I線光刻膠研發(fā)的Nikon-i14型光刻機(jī),，用于KrF光刻膠研發(fā)的Nikon-205C型光刻機(jī)，用于ArF干法光刻膠研發(fā)的ASML-1400型光刻機(jī),，以及用于ArF浸沒式光刻膠研發(fā)的ASMLXT1900Gi型光刻機(jī)已全部到廠,。公司光刻機(jī)設(shè)備的陸續(xù)到位運(yùn)轉(zhuǎn)，為公司集成電路制造用全產(chǎn)業(yè)鏈光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)提供了必要保障,。

此外,，公司于2020年定增募資8.15億元投入集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目,，主要開發(fā)集成電路制造中ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3DNAND（閃存,，屬于非易失性存儲(chǔ)器）臺(tái)階刻蝕的KrF厚膜光刻膠產(chǎn)品。公司預(yù)計(jì)KrF厚膜光刻膠2022年可實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定量產(chǎn)銷售,，ArF（干式）光刻膠在2023年開始穩(wěn)定量產(chǎn)銷售,。

本項(xiàng)目研發(fā)成功后，公司將掌握包括原料純化工藝,、配方工藝和生產(chǎn)工藝在內(nèi)的,、具有完整知識(shí)產(chǎn)權(quán)的ArF干法光刻膠和KrF厚膜光刻膠的規(guī)模化生產(chǎn)技術(shù),，可實(shí)現(xiàn)兩大類光刻膠產(chǎn)品及配套試劑的量產(chǎn)供貨,。

華懋科技是一家專注于汽車安全領(lǐng)域的系統(tǒng)部件提供商，產(chǎn)品線覆蓋汽車安全氣囊布,、安全氣囊袋以及安全帶等被動(dòng)安全系統(tǒng)部件,，國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有率位居前列。公司在夯實(shí)汽車板塊業(yè)務(wù)的同時(shí),，通過參與設(shè)立產(chǎn)業(yè)基金的形式,，逐步布局更具成長(zhǎng)性以及技術(shù)壁壘的半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)，延伸公司產(chǎn)業(yè)鏈條,。

子公司增資徐州博康，切入光刻膠領(lǐng)域,。華懋科技控股子公司東陽(yáng)凱陽(yáng)2020年向徐州博康增資3000萬元,，并向徐州博康實(shí)控人傅志偉提供5.5億元的可轉(zhuǎn)股借款和2.2億元的投資款。華懋科技通過此舉合計(jì)持有徐州博康26.7%股權(quán),，從而實(shí)現(xiàn)了對(duì)半導(dǎo)體關(guān)鍵材料光刻膠領(lǐng)域的布局,。

徐州博康是國(guó)內(nèi)光刻膠領(lǐng)域領(lǐng)先企業(yè)，擁有光刻膠原材料到成品的完整產(chǎn)業(yè)鏈布局,。徐州博康成立于2010年,，是國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的電子化學(xué)品高新技術(shù)企業(yè)，從事光刻材料領(lǐng)域中的中高端化學(xué)品的研發(fā)、生產(chǎn),、銷售,。公司光刻膠供應(yīng)鏈實(shí)現(xiàn)了從單體、光刻膠專用樹脂,、光酸劑及終產(chǎn)品光刻膠的完整布局,，其單體產(chǎn)品客戶涵蓋

、JSR等半導(dǎo)體材料龍頭廠商,。在研發(fā)實(shí)力方面,，徐州博康擁有專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)和先進(jìn)的研發(fā)設(shè)備，并與國(guó)內(nèi)多個(gè)集成電路專業(yè)平臺(tái)開展合作,。徐州博康在松江漕河涇科技綠洲設(shè)有5000平方米的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)研發(fā)中心,，擁有研發(fā)團(tuán)隊(duì)200余人，其中博士和碩士占比50%以上,。公司已配置KrFNikonS204,、I9、I12,，ACT8track,、日立CDSEM等先進(jìn)光刻檢測(cè)設(shè)備，以及其它理化檢測(cè)設(shè)備如ICP-MS,、H

,、GC、IR等,。同時(shí),，公司193nm光刻膠單體研發(fā)項(xiàng)目取得了國(guó)家“02專項(xiàng)”子課題立項(xiàng)。此外,，公司與國(guó)內(nèi)多個(gè)集成電路專業(yè)平臺(tái)進(jìn)行合作,，包括中科院微電子所、復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院等平臺(tái)或企業(yè),。

徐州博康光刻膠產(chǎn)品類型豐富,，可覆蓋多種應(yīng)用領(lǐng)域。公司目前已成功開發(fā)出40余種中高端光刻膠產(chǎn)品系列,，包括KrF/ArF光刻膠單體,、KrF/ArF光刻膠、G線/I線光刻膠,、電子束光刻膠及GHI超厚負(fù)膠等產(chǎn)品類型,，覆蓋IC集成電路制造、IC后段封裝,、化合物半導(dǎo)體,、分立器件,、電子束等多種應(yīng)用領(lǐng)域。

徐州博康通過新建生產(chǎn)基地,，進(jìn)一步提升光刻膠產(chǎn)能,。徐州博康目前正在新建生產(chǎn)基地，該項(xiàng)目完全建成投產(chǎn)后將擁有年產(chǎn)1100噸光刻材料及10000噸電子級(jí)溶劑的總產(chǎn)能,，可實(shí)現(xiàn)年產(chǎn)值20億元,，有望成為中國(guó)目前產(chǎn)品最齊全、技術(shù)水平最高的光刻膠材料研發(fā)制造基地之一,。

南大光電是一家專業(yè)從事高純電子材料研發(fā),、生產(chǎn)和銷售的高新技術(shù)企業(yè)，通過承擔(dān)國(guó)家重大技術(shù)攻關(guān)項(xiàng)目并實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化,，公司已經(jīng)從多個(gè)層面打破了所在行業(yè)內(nèi)的國(guó)外長(zhǎng)期壟斷,，前驅(qū)體、電子特氣,、光刻膠三大關(guān)鍵半導(dǎo)體材料的布局基本形成,。

公司光刻膠技術(shù)研發(fā)始終堅(jiān)持完全自主化路線，公司正在自主研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化的ArF光刻膠（包含干式及浸沒式）可以達(dá)到90nm-14nm的集成電路工藝節(jié)點(diǎn),。2017及2018年,，公司分別獲得國(guó)家02專項(xiàng)“高分辨率光刻膠與先進(jìn)封裝光刻膠產(chǎn)品關(guān)鍵技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目”和“ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”的正式立項(xiàng)。

為此,，公司組建了以高端光刻膠專業(yè)人才為核心的獨(dú)立研發(fā)團(tuán)隊(duì),，建成了約1，500平方米的研發(fā)中心和百升級(jí)光刻膠中試生產(chǎn)線,，開發(fā)出多款樹脂,、光敏劑、單體,，創(chuàng)新并不斷優(yōu)化提純工藝,，研究出193nm光刻膠的配方，產(chǎn)品研發(fā)進(jìn)展和成果得到業(yè)界專家的認(rèn)可,。

ArF光刻膠產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目進(jìn)展順利,，產(chǎn)品再次通過客戶認(rèn)證。公司目前已完成2條光刻膠生產(chǎn)線建設(shè),，主要先進(jìn)光刻設(shè)備,，如ASML浸沒式光刻機(jī)等已經(jīng)完成安裝并投入使用?？毓勺庸緦幉洗蠊怆娮灾餮邪l(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品繼2020年12月在一家存儲(chǔ)芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺(tái)上通過認(rèn)證后，近日又在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品上取得了認(rèn)證突破,，成為國(guó)內(nèi)首個(gè)通過下游客戶驗(yàn)證的國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠產(chǎn)品,。

在長(zhǎng)期的發(fā)展過程中,，公司形成了較為完備的研發(fā)設(shè)計(jì)體系，通過逐年加大科研力度,，技術(shù)實(shí)力得到不斷增強(qiáng),。2020年，公司研發(fā)投入總額為2.32億元,，占營(yíng)業(yè)收入的比例為38.98%,。研發(fā)投入同比增長(zhǎng)247.54%，主要是“ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目增加投入所致,。同時(shí),，公司研發(fā)人員數(shù)量逐年增加，截至2020年底,，公司擁有研發(fā)人員136人,，占公司總?cè)藬?shù)的比例為19%左右?？蒲辛Χ鹊募哟?，使得公司技術(shù)實(shí)力及自主創(chuàng)新能力得到不斷增強(qiáng)。截至2020年底,，公司及主要子公司自主開發(fā)的專利共計(jì)79項(xiàng),，其中發(fā)明專利21項(xiàng)，實(shí)用新型專利58項(xiàng),。

公司2021年擬通過定增募資1.5億元用于ArF光刻膠技術(shù)開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目,。項(xiàng)目計(jì)劃到2021年底，公司將達(dá)到年產(chǎn)25噸193nm（ArF干式和浸沒式）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模,，產(chǎn)品性能滿足90nm-14nm集成電路制造的要求,。同時(shí)，計(jì)劃建立國(guó)內(nèi)第一個(gè)專業(yè)用于ArF光刻膠產(chǎn)品研究開發(fā)的檢測(cè)評(píng)估平臺(tái),，滿足先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品和技術(shù)開發(fā)的需求,。公司欲通過此次定增項(xiàng)目實(shí)現(xiàn)高端光刻膠生產(chǎn)的完全國(guó)產(chǎn)化和量產(chǎn)零的突破，提升我國(guó)高端光刻膠這一領(lǐng)域的自主水平,。

設(shè)計(jì)與優(yōu)化應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（硅柵,、鋁柵CMOS、BiCMOS）,、分立

詳解 /

是什么 /

中,，蝕刻指的是從襯底上的薄膜選擇性去除材料并通過這一種去除在襯底上產(chǎn)生該材料的圖案的任何技術(shù)，該圖案由抗蝕

中有詳細(xì)描述,，一旦掩模就位,，能夠最終靠濕法化學(xué)或“干法”物理方法對(duì)不受掩模保護(hù)的材料來蝕刻，圖1顯示了這一過程的示意圖,。

技術(shù)概述 /

依靠浸沒式和多重曝光技術(shù)的支撐,，能夠完全滿足從 0.13um至7nm 共9個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的

,、曝光和刻蝕），進(jìn)行芯片封裝,，對(duì)加工完畢的芯片進(jìn)行技術(shù)性能指標(biāo)測(cè)試,，其中主要生產(chǎn)

基礎(chǔ)知識(shí)點(diǎn)介紹 /

、曝光和刻蝕）,，進(jìn)行芯片封裝,，對(duì)加工完畢的芯片進(jìn)行技術(shù)性能指標(biāo)測(cè)試，其中主要生產(chǎn)

中的應(yīng)用 /

的基本原理 /