中信證券發(fā)布研究報告稱,，我國在光刻機以及半導(dǎo)體量/檢測設(shè)備自主可控需核心光學(xué)系統(tǒng)達到國際一流水平,，目前我國頭部光學(xué)廠商已具備一定工業(yè)級超精密光學(xué)加工能力,，隨著國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)加快速度進行發(fā)展,、設(shè)備自主可控比例提升，半導(dǎo)體設(shè)備光學(xué)系統(tǒng)具有巨大的國產(chǎn)替代空間,，該行建議著重關(guān)注潛在的半導(dǎo)體設(shè)備光學(xué)元件供應(yīng)商。

  超精密光學(xué)元件為光學(xué)元件市場的“掌上明珠”,，主要使用在于半導(dǎo)體,、生命科學(xué)等高科技行業(yè),，弗若斯特沙利文預(yù)計(轉(zhuǎn)引自茂萊光學(xué)招股說明書)2026年全球工業(yè)級精密光學(xué)市場規(guī)模將達到268億元,，對應(yīng)2022-2026年CAGR為14%,。超精密光學(xué)元件制造考驗國內(nèi)廠商在制造設(shè)備、加工工藝等領(lǐng)域的綜合能力,，目前國內(nèi)廠商較海外龍頭仍有很大的差距,。從競爭格局看,，國內(nèi)精密光學(xué)企業(yè)抓住了產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移的機遇,，在產(chǎn)品設(shè)計,、制造,、檢測等關(guān)鍵環(huán)節(jié)逐步縮小了與國際廠商的差距,，根據(jù)弗若斯特沙利文數(shù)據(jù)(轉(zhuǎn)引自茂萊光學(xué)招股說明書),，2021年國內(nèi)精密光學(xué)企業(yè)在半導(dǎo)體和生命科學(xué)領(lǐng)域市場占有率分別達到了6%和12%,。

  半導(dǎo)體制程迭代需開發(fā)更高集成密度工藝,，實現(xiàn)難度持續(xù)增大,，先進半導(dǎo)體制程已從平面結(jié)構(gòu)發(fā)展至3D結(jié)構(gòu)，晶體管面積不斷縮小,。隨著半導(dǎo)體器件集成度提升,，行業(yè)需要用更復(fù)雜的制造工藝，對于材料和設(shè)備均提出了更高的要求,。根據(jù)Gartner數(shù)據(jù),，半導(dǎo)體設(shè)備擁有十大類設(shè)備,，光刻機和量/檢測設(shè)備為半導(dǎo)體制造重要設(shè)備。光刻機與半導(dǎo)體量/檢測設(shè)備占半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模的占比分別是17%和12%,。精密光學(xué)系統(tǒng)為光刻機以及量/檢測設(shè)備重要組成,，覆蓋半導(dǎo)體制造全流程，對于制造工藝以及良率控制有重大影響,，為半導(dǎo)體設(shè)備的核心零部件系統(tǒng),。

  光刻機為芯片生產(chǎn)的核心設(shè)備，直接影響制程工藝節(jié)點,。根據(jù)中國工程院(轉(zhuǎn)引自前瞻產(chǎn)業(yè)研究院),，一臺EUV光刻機包含了超過10萬個零部件，最重要的包含照明系統(tǒng),、工作臺系統(tǒng),、曝光系統(tǒng)等，全球供應(yīng)商超過5000家,。光學(xué)系統(tǒng)為光刻機重要組成,，直接影響光刻機分辨率和良率，大約占光刻機成本的30%,。根據(jù)ASML,、蔡司公告，該行認為高端光刻機光學(xué)系統(tǒng)價值量高,，該行預(yù)計2025年全球光刻機光學(xué)系統(tǒng)市場規(guī)模有望達到60億美元,，對應(yīng)2022-2025年CAGR為25%,。目前,，蔡司為全球光刻機光學(xué)系統(tǒng)市場絕對龍頭,，該行測算蔡司市場占有率高達90%,，而國內(nèi)廠商雖具備了一定的光刻機光學(xué)系統(tǒng)制造能力,，但與蔡司仍有較大差距,。

  應(yīng)用光學(xué)檢測技術(shù)的半導(dǎo)體量/檢測設(shè)備使用場景較廣,，根據(jù)VLSI Research和QY Research數(shù)據(jù),，2020年全球應(yīng)用光學(xué)檢測技術(shù)設(shè)備市場占有率為75.2%。隨著半導(dǎo)體制程已向亞納米發(fā)展,，半導(dǎo)體量/檢測設(shè)備通過提升分辨率,、提升算法和軟件性能、以及提升設(shè)備吞吐量等方式來進行改進,，相關(guān)設(shè)備對于光學(xué)系統(tǒng)要求達到超精密光學(xué)等級,，價值量不斷的提高,。根據(jù)Gartner,、SEMI以及中科飛測公告信息,，該行預(yù)計2024年全球半導(dǎo)體量/檢測設(shè)備光學(xué)系統(tǒng)市場規(guī)模有望達到13億美元,，而目前市場仍被Newport,、蔡司、Zygo,、Jenoptik等海外光學(xué)廠商主導(dǎo),。

  先進制程半導(dǎo)體設(shè)備仍為“卡脖子”環(huán)節(jié),，其中光刻機以及高端半導(dǎo)體量/檢測設(shè)備國產(chǎn)化率仍不足10%,。

  受到國際政治博弈加劇等壞因影響,，我國亟需在先進制程光刻機、半導(dǎo)體量/檢測設(shè)備尋求國產(chǎn)替代,。該類設(shè)備設(shè)計較為復(fù)雜,，零部件技術(shù)指標較高，產(chǎn)業(yè)鏈涉及較廣,，其中光學(xué)系統(tǒng)作為最重要的組成之一,，分別占光刻機以及半導(dǎo)體量/檢測設(shè)備成本的30%/10%，該行預(yù)計2025年光刻機以及半導(dǎo)體量/檢測設(shè)備配套光學(xué)系統(tǒng)市場規(guī)模有望達到73億美元,。

  風(fēng)險因素：半導(dǎo)體行業(yè)需求沒有到達預(yù)期;光刻機技術(shù)路線出現(xiàn)重大變化;國產(chǎn)光刻機光學(xué)系統(tǒng)發(fā)展沒有到達預(yù)期;國產(chǎn)半導(dǎo)體量/檢測設(shè)備光學(xué)系統(tǒng)發(fā)展沒有到達預(yù)期;國產(chǎn)光刻機產(chǎn)業(yè)發(fā)展沒有到達預(yù)期,。