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時(shí)間: 2024-01-26 14:29:51 |   作者: 哈希官網(wǎng)hashcsgo

2022年全球CVD設(shè)備商場(chǎng)規(guī)劃及結(jié)構(gòu)猜測(cè)剖析(圖)

  中商情報(bào)網(wǎng)訊:CVD(化學(xué)氣相堆積),,指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反響劑或液態(tài)反響劑的蒸氣及反響所需其它氣體引進(jìn)反響室,,在襯底外表發(fā)生化學(xué)反響生成薄膜的進(jìn)程,。在大規(guī)劃集成電路中許多薄膜都是選用CVD辦法制備,。通過(guò)CVD處理后,,外表處理膜密著性約進(jìn)步30%,,避免高強(qiáng)力鋼的曲折,,拉伸等成形時(shí)發(fā)生的刮痕,。

  2019年受下流需求下降全體半導(dǎo)體景氣量下降影響,,CVD設(shè)備需求呈現(xiàn)較大起伏下滑,,2020年以來(lái)5G帶動(dòng)智能手機(jī)需求回暖,全體半導(dǎo)體設(shè)備工業(yè)需求上升,,2020年CVD設(shè)備規(guī)劃達(dá)85億美元,。跟著轎車電子和物聯(lián)網(wǎng)全體繼續(xù)開(kāi)展,半導(dǎo)體需求繼續(xù)提高,,估計(jì)2022年商場(chǎng)規(guī)劃將到達(dá)96億美元,。

  現(xiàn)在PECVD占比最多,達(dá)46.9%,,PECVD設(shè)備在比較來(lái)說(shuō)較低的反響溫度下構(gòu)成高致密度,、高性能薄膜,不損壞已有薄膜和已構(gòu)成的底層電路,,完成更快的薄膜堆積速度,;ALD也跟著先進(jìn)制程需求繼續(xù)增長(zhǎng)占比有所提高,現(xiàn)在達(dá)17.7%左右,。其次分別為L(zhǎng)PCVD,、APCVD、MOCVD,,占比分別為15.6%,、14.6%、5.2%,。

  更多材料請(qǐng)參考中商工業(yè)研究院發(fā)布的《我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備未來(lái)商場(chǎng)開(kāi)展的潛力及出資時(shí)機(jī)研究報(bào)告》,,同時(shí)中商工業(yè)研究院還供給工業(yè)大數(shù)據(jù)、工業(yè)情報(bào),、職業(yè)研究報(bào)告,、職業(yè)白皮書、商業(yè)計(jì)劃書,、可行性研究報(bào)告,、園區(qū)工業(yè)規(guī)劃,、工業(yè)鏈招商圖譜、工業(yè)招商指引,、工業(yè)鏈招商調(diào)查&推介會(huì)等服務(wù),。


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