繼數(shù)字經(jīng)濟,、人工智能之后，周五半導(dǎo)體接力了領(lǐng)漲大旗,，完成“牛夫人”向“小甜甜”的蛻變,，現(xiàn)在還在“蜜月期”。

  北方華創(chuàng)的一紙公告,，瞬間點燃了證券交易市場半導(dǎo)體的熱情,，作為國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備明星的北方華創(chuàng)，超預(yù)期的業(yè)績,，說明半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的復(fù)蘇,，今天為大家盤點一下半導(dǎo)體設(shè)備

  繼2020年之后，中國在2021年第二次成為半導(dǎo)體設(shè)備的最大市場,，銷售額增長58%,，達到296億美元，占據(jù)全球規(guī)模比例高達28.9%,。

  半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)整體市場集中度較高,，話語權(quán)主要掌握在美國、日本和歐洲企業(yè)手中,，2021全球前六大企業(yè)占據(jù)近7成市場份額,。

  如今，中國半導(dǎo)體設(shè)備銷售規(guī)模一直增長,，但國內(nèi)自主研發(fā)制造半導(dǎo)體設(shè)備仍處于行業(yè)初期,，與國外領(lǐng)先水平存在一定差距，未來布局研制國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備勢在必行,。

  我們國內(nèi)的半導(dǎo)體處于外圍的攔截中,，美國聯(lián)合眾小弟時不時出一些“幺蛾子”，跳梁小丑而已,，不過分輕視,，但也不足為懼,。

  一片“腥風血雨”中，半導(dǎo)體依舊傲然而立,，周五直接領(lǐng)漲兩市,，英雄本色盡顯。

  半導(dǎo)體設(shè)備零部件的參數(shù)較高,，對精度,、強度、清潔度,、抗腐蝕,、電子特性、電磁特性復(fù)合要求比較高,，屬于“既要...還要...”類型,，生產(chǎn)的基本工藝復(fù)雜，設(shè)計精密機械制造,、工程材料,、表面處理特種工藝等多個領(lǐng)域和科學(xué)，是半導(dǎo)體設(shè)備核心技術(shù)的直接保障,。

  由于半導(dǎo)體設(shè)備工藝復(fù)雜,，種類較多，因此零部件種類較多,。比如光刻機,，被認為是世界上最復(fù)雜的設(shè)備之一，最先進的光刻機使用超過10萬個零部件,。

  半導(dǎo)體工序流程復(fù)雜,，涉及環(huán)節(jié)較多，按照不同制造環(huán)節(jié),，使用的半導(dǎo)體設(shè)備不同

  硅片→表面清洗→氧化→涂光刻膠→光刻→顯影→刻蝕→光刻膠去處→離子注入→氣象沉積→原子層沉積→化學(xué)機械拋光→金屬濺射。

  具體的半導(dǎo)體設(shè)備主要是光刻機,、刻蝕設(shè)備,、薄膜設(shè)備、清理洗滌設(shè)施,、過程控制,、CMP設(shè)備等。

  清洗掉晶圓片表面的污染物,，獲得所需潔凈表面的工藝設(shè)備,，在各制程前后均需使用。

  2021年清理洗滌設(shè)施全球市場空間達到42億美元,，國內(nèi)市場達14億美元,，整個行業(yè)集中度較高,，目前我國半導(dǎo)體清理洗滌設(shè)施的國產(chǎn)化率為25%。

  刻蝕是利用化學(xué),、物理或者化學(xué)物理結(jié)合的方法有選擇的去處光刻膠開口下方的材料,，復(fù)雜程度比較高。

  2021年全球刻蝕設(shè)備市場空間為2000億美元,，主要被LamResearch,，TEL，AMAT等三巨頭主導(dǎo)市場,，國內(nèi)市場空間為58億美元,，國產(chǎn)化率22%

  中微公司工藝覆蓋范圍相對較廣，主力出貨類型為CCP,，近期ICP逐步發(fā)力,；

  化學(xué)機械拋光設(shè)備工藝復(fù)雜，研制難度較大,，是半導(dǎo)體制造流程中使用的主要設(shè)備之一,，在超大規(guī)模集成電路中有廣泛應(yīng)用。

  2021年全球市場空間為28億美元,，AMAT和日本荏原合占全球90%以上市場份額,。

  北方華創(chuàng)優(yōu)勢較為顯著，其相關(guān)設(shè)備主要以各類氧化爐,、退火爐,、合金爐等為主；

  主要是用于沉淀物質(zhì),，在設(shè)備市場中占比較高,，最重要的包含PVD、CVD和ALD三類,，其中ALD是產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展趨勢,。

  2021年全球市場空間為190億美元，國內(nèi)市場空間為50億美元,，國產(chǎn)化率達到7%,。

  三家廠商均是對應(yīng)細分設(shè)備（PECVD、PVD,、電鍍）領(lǐng)域的國內(nèi)龍頭,，產(chǎn)業(yè)地位突出。

  是配合光刻膠工作的核心工藝設(shè)備,，2021年全球市場規(guī)模達34億美元,，長期被TEL壟斷，國產(chǎn)化率為2%,，處于較低水平,，國產(chǎn)化提升亟待加速,。

  2021年全球市場規(guī)模為22億美元，被應(yīng)用材料,、Axcelis壟斷,，國產(chǎn)設(shè)備仍相對空缺處于快速起步期，國產(chǎn)化率僅為2%,。

  國產(chǎn)離子注入機的發(fā)展處于起步階段,，離子注入機國產(chǎn)化依賴于萬業(yè)企業(yè)（凱世通）和中科信。

  光刻機是芯片制造與光刻膠研發(fā)中的核心工藝設(shè)備,，2021年全球市場占有率高達231億美元,，ASML市占率達75%，是全球唯一銷售高端光刻機-EUV的廠商,。

  國內(nèi)市場規(guī)模達67億美元,，但國產(chǎn)化率仍接近于零，極大程度依賴海外光刻設(shè)備,。

  貫穿于集成電路領(lǐng)域生產(chǎn)的全部過程的質(zhì)量控制環(huán)節(jié),，檢測和量測環(huán)節(jié)貫穿制造全過程，是保證芯片生產(chǎn)良品率最重要的環(huán)節(jié),。

  2021年全球市場規(guī)模為93億美元,，競爭格局相對集中，全世界內(nèi)主要檢驗測試和量測設(shè)備企業(yè)包括KLA,、AMAT,、日立等。

  中科飛測基本的產(chǎn)品為光學(xué)表面三維形貌量測設(shè)備等光學(xué)檢測設(shè)備,，精測半導(dǎo)體,、睿勵科學(xué)儀器基本的產(chǎn)品均為膜厚量測設(shè)備；

  盛美上海：公司基本的產(chǎn)品為半導(dǎo)體清理洗滌設(shè)施,、半導(dǎo)體電鍍設(shè)備和先進封裝濕法設(shè)備,。

  中微公司：公司產(chǎn)品聚焦離子體刻蝕設(shè)備、深硅刻蝕設(shè)備和MOCVD設(shè)備等關(guān)鍵設(shè)備,。

  萬業(yè)企業(yè)：旗下的凱世通制造的IC離子注入機迎來商業(yè)客戶及多款設(shè)備訂單的重大突破,。

  華海清科：華海清科28nm及以上制程的主要CMP設(shè)備與國際龍頭已不存在很明顯技術(shù)差距。